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艾博納微納米科技(江蘇)有限責(zé)任公司

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當(dāng)前位置:艾博納微納米科技(江蘇)有限責(zé)任公司>>儀器設(shè)備>>真空鍍膜機(jī)>> ABN-450-S4磁控濺射鍍膜

磁控濺射鍍膜

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào):ABN-450-S4

品       牌:其他品牌

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:淮安市

更新時(shí)間:2024-08-21 15:34:20瀏覽次數(shù):178次

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產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,能源,印刷包裝,綜合
磁控濺射鍍膜采用電阻式熱蒸發(fā)結(jié)構(gòu),該系統(tǒng)可蒸鍍多種金屬材料(金、銀、銅、鋁等),也可以蒸鍍多種有機(jī)材料(NPB、ALq3、BCP、TPBi、C60等),以及多種無(wú)機(jī)材(LiF、SnO2、MoO3等)。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于各高校、科研院所、科研實(shí)驗(yàn)室以及企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)等。

  磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn):

  1.真空系統(tǒng)

  真空腔體由標(biāo)準(zhǔn)的304不銹鋼焊接而成,內(nèi)部形狀為長(zhǎng)方體,其尺寸為600mm*600mm*700mm,電解拋光處理,減少內(nèi)部材料放氣現(xiàn)象。真空腔體上安裝有電極,基片系統(tǒng),真空系統(tǒng),氣路系統(tǒng)等部件;真空腔體配備兩個(gè)可以打開(kāi)的門(mén),前門(mén)為移門(mén),通過(guò)與直線導(dǎo)軌,滑塊等裝置連接,可使前門(mén)左右開(kāi)啟與關(guān)閉,后期也可以連接手套箱,在手套箱內(nèi)部操作前門(mén)開(kāi)關(guān),確保整個(gè)工作環(huán)境處于氮?dú)饣蚨栊詺怏w氛圍中;后門(mén)旋轉(zhuǎn)門(mén),通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸實(shí)現(xiàn)后門(mén)的開(kāi)關(guān),開(kāi)啟后腔體內(nèi)部暴露在空氣中,主要的目的為維護(hù)檢修,并配一個(gè)長(zhǎng)方形觀察窗,配合腔體外部照明燈,方便觀察腔體內(nèi)部狀況。腔體側(cè)面裝有抽氣主管道,分子泵,插板閥,真空計(jì),充氣閥,角閥等真空配件,在腔體潔凈,無(wú)污染的情況下,極限真空5*10-5pa,四十分鐘可達(dá)到大氣至5*10-4pa,系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后,真空度≤5Pa。該系統(tǒng)可以在不停分子泵的前提下,對(duì)腔體內(nèi)部材料添加、更換,也可以取放基片。

  2.樣品系統(tǒng)

  該設(shè)備的樣品架采用嵌入式結(jié)構(gòu),可搭載一片210mm*210mm基片,向下兼容,也可以搭載多片定制數(shù)量小基片;基片帶冷卻系統(tǒng);掩模版到基片距離小于0.1mm。

  樣品架通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸,磁流體,聯(lián)軸器,電機(jī)等裝置連接,從而可實(shí)現(xiàn)0~30轉(zhuǎn)/分鐘。配備1套基片擋板系統(tǒng),可以根據(jù)實(shí)際工作需求開(kāi)啟與關(guān)閉。

  3.沉積系統(tǒng)

  該系統(tǒng)配備4組蒸發(fā)源,可對(duì)金屬,有機(jī),無(wú)機(jī)物等材料進(jìn)行蒸鍍,每組蒸發(fā)源均配備冷卻系統(tǒng),4組蒸發(fā)源按照R-D-matin-ME系列舟蒸發(fā)源設(shè)計(jì);源和源之間有隔板,防止交叉污染及隔絕一定溫度輻射。

  各個(gè)源均可通過(guò)繼電器切換與一臺(tái)可編程直流電源連接,電源設(shè)定為恒流模式,調(diào)節(jié)電流的大小來(lái)對(duì)蒸發(fā)源上的負(fù)載進(jìn)行加熱,(TDKGEN8-1801.5KW可編程直流電源,升溫溫度1500℃,精度0.1A)從而使得負(fù)載上的材料達(dá)到一定溫度后發(fā)生蒸發(fā)現(xiàn)象。通過(guò)膜厚儀上的數(shù)據(jù),可實(shí)時(shí)反饋出材料蒸發(fā)的速率(采用1臺(tái)InficonSQC-3102通道膜厚儀,厚度和速率分辨率±0.015?,速率顯示0.01?/s,可同時(shí)顯示2個(gè)膜厚探頭的讀數(shù)),沉積厚度等信息。也可以通過(guò)編輯膜厚儀程序,到達(dá)自動(dòng)蒸鍍的效果。

  4.控制系統(tǒng)

  磁控濺射鍍膜采用工控機(jī)控制系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)一鍵式抽真空,也可以在手動(dòng)模式下,控制機(jī)械泵、角閥、插板閥、分子泵的開(kāi)啟和停止,軟件中含有各個(gè)電氣設(shè)備的軟件互鎖和狀態(tài)反饋,確保不會(huì)因誤操作導(dǎo)致設(shè)備的損壞,還可以在手動(dòng)模式下,控制基片旋轉(zhuǎn),擋板開(kāi)關(guān),電極的切換等一系列操作。速率控制模式可以設(shè)定蒸發(fā)材料的速率值,與膜厚儀中探頭檢測(cè)的實(shí)際值比較,通過(guò)速率控制PID模塊調(diào)節(jié)加熱電源的輸出;通過(guò)膜厚儀與工控機(jī)串口通訊,將蒸發(fā)速率、蒸鍍膜厚和輸出功率一同在軟件中實(shí)時(shí)顯示,方便操作人員監(jiān)測(cè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程;登陸軟件需要用戶(hù)名和密碼,不同的用戶(hù)名對(duì)應(yīng)不同的操作權(quán)限,確保操作人員不會(huì)誤操作到設(shè)備的參數(shù)設(shè)置

  


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